有多個(gè)專業(yè)可以學(xué)，如:光學(xué)、機(jī)械加工、電子電路、化學(xué)等。

光刻技術(shù)涉及到的知識(shí)有：光學(xué)、機(jī)械加工、電子電路、化學(xué)等多個(gè)學(xué)科知識(shí)。光刻技術(shù)的主要性能指標(biāo)有：支持基片的尺寸范圍，分辨率、對(duì)準(zhǔn)精度、曝光方式、光源波長(zhǎng)、光強(qiáng)均勻性、生產(chǎn)效率等。分辨率是對(duì)光刻工藝加工可以達(dá)到的最細(xì)線條精度的一種描述方式。