能夠研發(fā)的,首先要相信自己的國家,自力更生,艱苦奮斗,從無到有,不讓歐美西方國家卡脖子雖然光刻機(jī)的自主研發(fā)之路很困難,但是中國還是取得了很大成就的。
2016年,上海微電就成功研發(fā)了90nm光刻機(jī)。
2018年,中科院的超分辨光刻機(jī)設(shè)備研發(fā)成功,目前結(jié)合獨(dú)特的雙重曝光技術(shù)已經(jīng)可以自主研發(fā)10nm芯片了。雖然10nm的芯片和目前世界上頂尖的芯片還有一段距離,但這總歸是一個(gè)好的開始。