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光刻機(jī)是怎么發(fā)明的

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問題描述:

光刻機(jī)是怎么發(fā)明的求高手給解答

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1947年,貝爾實(shí)驗(yàn)室發(fā)明第一只點(diǎn)接觸晶體管。

從此光刻技術(shù)開始了發(fā)展。

1959年,世界上第一架晶體管計(jì)算機(jī)誕生,提出光刻工藝,仙童半導(dǎo)體研制世界第一個(gè)適用單結(jié)構(gòu)硅晶片。

1960年代,仙童提出CMOS IC制造工藝,第一臺(tái)IC計(jì)算機(jī)IBM360,并且建立了世界上第一臺(tái)2英寸集成電路生產(chǎn)線,美國GCA公司開發(fā)出光學(xué)圖形發(fā)生器和分布重復(fù)精縮機(jī)。

1970年代,GCA開發(fā)出第一臺(tái)分布重復(fù)投影曝光機(jī),集成電路圖形線寬從1.5μm縮小到0.5μm節(jié)點(diǎn)。

1980年代,美國SVGL公司開發(fā)出第一代步進(jìn)掃描投影曝光機(jī),集成電路圖形線寬從0.5μm縮小到0.35μm節(jié)點(diǎn)。

1990年代,Cano著手300mm晶圓曝光機(jī),推出EX3L和5L步進(jìn)機(jī);ASML推出FPA2500,193nm波長步進(jìn)掃描曝光機(jī)。光學(xué)光刻分辨率到達(dá)70nm的“極限”。

2000年以來,在光學(xué)光刻技術(shù)努力突破分辨率“極限”的同時(shí),NGL正在研究,包括極紫外線光刻技術(shù)、電子束光刻技術(shù)、X射線光刻技術(shù)、納米壓印技術(shù)等。與此同時(shí),荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥ASML,占據(jù)了63%的市場份額,產(chǎn)品集中在中高端的極紫外光刻EUV和深紫外光刻DUV上。然而在2004年前,尼康是當(dāng)之無愧的帶頭大哥,尼康一直將光刻機(jī)作為自己的核心產(chǎn)品,也是讓日本企業(yè)引以為傲的“民族之光”,甚至當(dāng)年能到尼康從事光刻機(jī)的研發(fā)一度成為眾多日本大好青年的愿景。再看ASML的基礎(chǔ)并不好。從1984年誕生后的20年,ASML就一直是一個(gè)謎一樣的存在,沒有什么人會(huì)覺得ASML能夠有什么未來,甚至包括他們自己。早期ASML還叫做ASM,生存無望,之能找人投奔,后來飛利浦動(dòng)了惻隱之心,在總部大廈旁邊的空地上給ASML弄了幾個(gè)簡易廠房,ASML當(dāng)時(shí)很艱苦,能活20年全靠日積月累出來的“銷售手藝”。魔幻的是,這點(diǎn)“手藝”居然成為了日后ASML登頂?shù)年P(guān)鍵??嗫嘀?0年,ASML終于等待了他們第一個(gè)貴人——臺(tái)積電鬼才林本堅(jiān),一個(gè)可以比肩張忠謀的人物。如果說張忠謀締造了臺(tái)積電的前20年,林本堅(jiān)就為臺(tái)積電的后二十年掙下了巨大的家當(dāng)。林本堅(jiān)1942年出生于越南,中國臺(tái)灣人,祖籍廣東潮汕。林本堅(jiān)1970年獲得美國俄亥俄州立大學(xué)電機(jī)工程博士學(xué)位,2008年當(dāng)選美國國家工程學(xué)院院士。在加入臺(tái)積電之前,林本堅(jiān)在IBM從事成像技術(shù)的研發(fā)長達(dá)22年,是當(dāng)時(shí)世界無二的頂級微影專家。

2000年,林本堅(jiān)在當(dāng)時(shí)臺(tái)積電研發(fā)長蔣尚義的邀請下加入臺(tái)積電,開啟了真正“彪悍的人生”。在IBM最后幾年,林本堅(jiān)其實(shí)已經(jīng)看到了傲慢的IBM在微影領(lǐng)域的大廈將傾。他希望IBM能夠給予他當(dāng)時(shí)微影部門所研發(fā)的X光光刻技術(shù)1/10的經(jīng)費(fèi),用來“做點(diǎn)東西”,然而IBM因?yàn)槠淙A人的身份,并不打算買賬。后來林本堅(jiān)回憶說:“我判斷到65納米(干式光刻)階段時(shí),讓我再往前看三代的話,我就已經(jīng)看不到了?!庇谑窃诒姸嗳讼萑隭光光刻技術(shù)無法自拔的時(shí)候,林本堅(jiān)義無反顧地投入了浸潤式光刻技術(shù)的研究中。終于在2002年,已經(jīng)加入臺(tái)積電的他研究出以水作為介質(zhì)的193納米浸潤式光刻技術(shù)。也就是在2002年,冥冥之中宣告了過往干式光刻機(jī)的死刑。浸潤式光刻技術(shù)讓摩爾定律繼續(xù)延伸,后來臺(tái)積電也因此領(lǐng)先競爭對手超過5年。然而任何一項(xiàng)顛覆式新技術(shù)的出現(xiàn),總會(huì)受到來自于傳統(tǒng)勢力巨大的阻力。林本堅(jiān)的浸潤式光刻,幾乎被尼康、佳能、IBM等所有巨頭封殺,尼康甚至向臺(tái)積電施壓,要求雪藏林本堅(jiān)。巨頭的隕落,總是如出一轍。當(dāng)年1947年12月,大名鼎鼎的美國貝爾實(shí)驗(yàn)室的肖克利(“晶體管之父”)、巴丁和布拉頓共同研制出了一種點(diǎn)接觸型的鍺晶體管?。ㄈ艘虼双@得了1956年的諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng))

光刻機(jī)是怎么發(fā)明的

其他答案

光刻機(jī)作為集成電路制造中最精密復(fù)雜、難度最高的設(shè)備,制造難度堪比原子彈,從來就不是一個(gè)人便能做成了,而是整個(gè)人類智慧的結(jié)晶。是每代科學(xué)家站在先驅(qū)的研究基礎(chǔ)上,一點(diǎn)一點(diǎn)改進(jìn)出來的。

光刻機(jī)制造商更像是系統(tǒng)集成商,通過整合拼裝,將十幾個(gè)子系統(tǒng)和8000多個(gè)零配件集成在一起!全球范圍內(nèi),沒有任何一家光刻機(jī)制造商能夠獨(dú)立造出光刻機(jī)。

其他答案

光刻機(jī)是一種利用光學(xué)技術(shù)對半導(dǎo)體材料進(jìn)行加工的機(jī)器,它可以認(rèn)為是計(jì)算機(jī)技術(shù)發(fā)展的強(qiáng)大助推器,在人們發(fā)現(xiàn)晶體管計(jì)算機(jī)比電子管計(jì)算機(jī)的效率提高成千上百倍后,有人又提出,構(gòu)成晶體管的半導(dǎo)體材料要先行造成晶體管的形態(tài)再把晶體管連通起來,其電子學(xué)性能還是不高,如果在一大塊半導(dǎo)體材料中用外力方法切去一部分,令其在原有材料的基礎(chǔ)上形成成千上萬個(gè)晶體管,其電子學(xué)性能就有翻天復(fù)地的變化。

究竟何種外力能夠加工半導(dǎo)體材料?經(jīng)過科學(xué)實(shí)驗(yàn),人們知道光學(xué)技術(shù)能夠達(dá)到這一點(diǎn),世界上最大的,最有實(shí)力的電子照明技術(shù)就是荷蘭的菲利蒲公司,后來根椐世界產(chǎn)業(yè)分工的原因,該公司分列出一個(gè)子公司,這個(gè)公司利用了菲利蒲公司歷史上沉淀的光學(xué)研究技術(shù),利用了德國提供的精密機(jī)械技術(shù),利用了美國提供的光源,利用了世界各地的元件配件,制成了半導(dǎo)體材料的光學(xué)加工機(jī)器,這種機(jī)器由于是由專門人材設(shè)計(jì),能工巧匠操作加工而成,所產(chǎn)出的機(jī)器性能穩(wěn)定,品質(zhì)保證,比同行業(yè)廠商的水平高出很多,所以可以認(rèn)為是世界頂級的光刻機(jī)。

其他答案

1、1822年法國人Nicephore niepce發(fā)明了光刻機(jī),在早期階段其功能簡單,而且使用的材料也是較為粗糙的,通過材料光照實(shí)驗(yàn)之后,Nicephore niepce發(fā)現(xiàn)能夠復(fù)制一種刻著在油紙上的印痕,而在其出現(xiàn)在玻璃片上后,經(jīng)過一段時(shí)間的日曬,其透光部分的瀝青就會(huì)變得很硬,但在不透光部分則可以用松香和植物油將其洗掉。

2、盡管光刻機(jī)發(fā)明的時(shí)間較早,不過在其發(fā)明之后,并沒有在各行業(yè)領(lǐng)域之中被使用,直到第2次世界大戰(zhàn)時(shí),該技術(shù)應(yīng)用于印刷電路板,所使用的材料和早期發(fā)明時(shí)使用的材料也已經(jīng)有了極大的區(qū)別,在塑料板上通過銅線路制作,讓電路板得以普及,短期之內(nèi)就成為了眾多電子設(shè)備領(lǐng)域中最為關(guān)鍵的材料之一。

其他答案

現(xiàn)代光刻技術(shù)可以追溯到190年以前,1822年法國人Nicephore niepce在各種材料光照實(shí)驗(yàn)以后,開始試圖復(fù)制一種刻蝕在油紙上的印痕(圖案),他將油紙放在一塊玻璃片上,玻片上涂有溶解在植物油中的瀝青。經(jīng)過2、3小時(shí)的日曬,透光部分的瀝青明顯變硬,而不透光部分瀝青依然軟并可被松香和植物油的混合液洗掉。通過用強(qiáng)酸刻蝕玻璃板,Niepce在1827年制作了一個(gè)d’Amboise主教的雕板相的復(fù)制品。

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